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日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV

日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV

產(chǎn)品型號(hào): Ultra Apex Mill Advance

所屬分類:

產(chǎn)品時(shí)間:2024-09-06

簡(jiǎn)要描述:日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV
在我們的產(chǎn)品線中,損傷分散小的珠磨機(jī)。針對(duì)“超低損傷納米顆粒分散體"進(jìn)行了優(yōu)化的濕微珠磨機(jī),是使用φ15μm至φ50μm磁珠進(jìn)行低沖擊攪拌的設(shè)備,這是一種先進(jìn)的寬分離器三角磨機(jī)。

詳細(xì)說明:

日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV

一liu的超低沖擊濕法微珠磨機(jī),用于納米分散

總覽

 在我們的產(chǎn)品線中,損傷分散小的珠磨機(jī)。針對(duì)“超低損傷納米顆粒分散體”進(jìn)行了優(yōu)化的濕微珠磨機(jī),是使用φ15μm至φ50μm磁珠進(jìn)行低沖擊攪拌的設(shè)備,這是一種先進(jìn)的寬分離器三角磨機(jī)。
 帶有新設(shè)計(jì)的平面攪拌器/珠分離轉(zhuǎn)子的濕珠磨機(jī)可實(shí)現(xiàn)低離心力處理。通過減小從珠粒到納米顆粒的沖擊力,同時(shí)保持珠粒的足夠的攪拌速度,在維持每單位珠粒量的加工速度的同時(shí),對(duì)納米顆粒的損害小化。
 另外,為了滿足xin的納米分散需求,轉(zhuǎn)子設(shè)計(jì)使研磨機(jī)中珠粒的攪拌能量均勻,從而可以進(jìn)行均勻的分散處理。

特征

1.可以分散gao級(jí)別超低損傷納米顆粒的珠磨機(jī)!

珠磨機(jī),即使使用軟顆?;蚣{米顆粒的漿液,也可以進(jìn)行超低沖擊處理,并且可以進(jìn)行納米分散處理且損傷小。它可以用于分散軟納米顆粒,例如100 nm級(jí)鈦酸鋇和有機(jī)顏料,而傳統(tǒng)的珠磨機(jī)無法對(duì)其進(jìn)行適當(dāng)處理。

2.通過分散處理納米顆粒漿料抑制粘度和凝膠化的增加!

這是一種珠磨機(jī),可以將由于顆粒破壞而產(chǎn)生的細(xì)小碎片抑制到小,即使使用納米顆粒也可以抑制漿料的粘度和凝膠化。在確保漿料的流動(dòng)性和改善長(zhǎng)期保存期間的產(chǎn)品漿料的穩(wěn)定性方面是有效的。

3.納米粒子的粒度分布可以變得更銳利!

由于在珠磨機(jī)中的攪拌功率高度均勻,因此在漿料中的分散度均勻,并且可以抑制顆粒碎屑,因此即使使用幾十nm的納米顆粒,也可以獲得清晰的粒徑分布??梢蕴岣弋a(chǎn)品性能,并且可以在批量生產(chǎn)條件下復(fù)制產(chǎn)品設(shè)計(jì)時(shí)預(yù)期的產(chǎn)品性能。

運(yùn)行條件

可用磁珠直徑

Φ15μm?Φ0.3毫米

珠粒分離器圓周速度

6m /秒至18m / s

應(yīng)用實(shí)例和終產(chǎn)品實(shí)例

高粘度支撐

光學(xué)材料(氧化鋯和二氧化硅在樹脂原料中的納米分散體),導(dǎo)電涂料,化妝品(氧化鈦和氧化鋅在油中的分散體)等。

支持低損傷擴(kuò)散

電子材料(鈦酸鋇,中空二氧化硅),電極材料(納米銀,鎳等),熱射線阻擋材料(ITO等),光催化劑(氧化鈦),
液晶顏料等。

介紹Apex Mill系列的產(chǎn)品陣容

日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機(jī)ADV

產(chǎn)品名稱大綱可用磁珠直徑
頂點(diǎn)磨濕式研磨珠磨機(jī)
 立式濕式研磨珠磨機(jī),可有效處理微米至亞微米級(jí)的研磨
φ0.3毫米?φ5毫米
超尖磨機(jī)*yi臺(tái)  微珠磨粉機(jī)納米珠磨粉機(jī)的標(biāo)準(zhǔn)模型,
 可以使用小直徑為15μm的微珠
粉,它是一種納米粉碎和納米分散的微珠磨粉機(jī)。
φ15?1毫米
雙頂點(diǎn)磨 濕式微珠研磨機(jī),
 用于雙軸微珠研磨和納米顆粒分散,特別是用于低損傷的納米顆粒分散
φ15?1毫米
寬分離器
Apex Mill
高流量高粘度珠磨機(jī)
 濕式微珠磨機(jī),與使用微珠的高流速和高粘度納米顆粒分散體兼容
φ15?0.3毫米
Ultra Apex Mill
Advance
超低損傷納米分散機(jī)
 高檔超低沖擊納米分散濕法微球磨機(jī)
φ15?0.3毫米
Apex Mill F&M用于藥品,食品和化妝品的無  密封
 珠磨機(jī),適用粉碎有機(jī)物質(zhì)。珠磨機(jī)
省略了機(jī)械密封,以提高清潔性并防止污染,
 尤其適用于納米級(jí)制藥
φ0.1毫米?φ5毫米
 


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